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产品图材料属性

多孔氮化铝散热基座

别名:绝缘导热陶瓷基座
描述
氮化铝(AlN)陶瓷基座,凭借接近金属的优异导热性能、超高电绝缘性和稳定的理化性能,完美解决大功率电子器件的散热、绝缘、支撑三重核心需求,替代传统氧化铝陶瓷、金属基座,适配高功率、高密度、小型化电子设备,是半导体、微电子、光电子等领域的标配精密基座。产品可根据客户需求定制各类规格、异形结构,支持开槽、打孔、台阶面等精密加工,尺寸公差精准、表面平整光洁,适配芯片、模组、功率器件的精准装配与高效散热,批量供货性能稳定,满足国产化高端电子制造需求。
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多孔氮化铝散热基座
*部分内容与参数仅供参考,我司可根据客户需求进行陶瓷性能调配与加工定制
设计特点

  • 超高导热性能,高效散热:室温导热系数高达170W/(m·K),远超常规氧化铝陶瓷,导热效率接近无氧铜,可快速导出大功率器件工作热量,避免器件积热损坏,大幅提升电子设备运行稳定性与使用寿命。
  • 超强电绝缘,安全可靠:体积电阻率极高,介电损耗低、击穿电压高,高温高压工况下依旧保持稳定绝缘性能,杜绝漏电、短路风险,完美兼顾导热与绝缘,适配高压、高频电子场景。
  • 热膨胀匹配,抗热震性优:热膨胀系数与硅芯片、半导体器件高度匹配,避免冷热循环产生热应力开裂,无变形、无分层,反复高低温工况下性能稳定,适配严苛的工业与车载环境。
  • 机械强度高,耐磨耐腐蚀:材质致密坚硬,抗弯强度高,耐机械冲击、耐磨擦,化学性质稳定,不氧化、不被酸碱腐蚀,长期使用无性能衰减,适配各类恶劣工业环境。
  • 精密可加工,适配性强:可实现高精度打孔、开槽、异形切割等深加工,满足复杂装配需求,无毛刺、无杂质,洁净度高,适配微电子器件的精密组装要求。

应用领域

1. 半导体与集成电路

用作功率芯片、IGBT模块、MOS管、第三代半导体(SiC/GaN)器件的支撑散热基座,芯片封装底座、电子元器件承载基座,保障高功率芯片高效散热与绝缘,提升器件性能。

2. 光电子与通信行业

适配激光器件、LED大功率模组、光通信模块、红外器件的支撑基座,高频通讯设备散热绝缘底座,解决光电子器件高密度集成后的散热难题,保证器件工作精度。

3. 电子电力与新能源

用于新能源汽车电控系统、充电桩模块、光伏逆变器、储能变流器的功率器件基座,高压电器、变频器绝缘散热底座,耐受大电流、高电压工况,提升电力设备安全性。

4. 精密仪器与工业自动化

适配精密传感器、工业控制模块、自动化设备电子组件的支撑基座,高精度检测设备绝缘散热载体,兼顾结构支撑、散热与绝缘,保证仪器运行精准稳定。

5. 航空航天与军工电子

用作航空航天机载电子设备、军工精密电子模块的专用基座,耐高温、抗冲击、性能稳定,适配极端工况下的电子设备散热与支撑需求。

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深圳市海德精密陶瓷有限公司

一家面向全球先进精密陶瓷(特种陶瓷)制造的国家高新技术企业,专注于开发、设计、生产和销售先进的精密陶瓷产品,涵盖氧化锆、氧化铝、氮化硅等材料,广泛应用于航空、航天、军工、医疗等领域

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精密陶瓷产品定制流程

第一步
来图咨询
第二步
技术评估
第三步
确定报价
第四步
签订合同
第五步
检验发货
第六步
确认收货
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